名古屋市工業研究所

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主要設備・設備検索

設置設備・装置等の仕様

導入年度:平成22年 戦略的基盤技術高度化支援事業(サポイン)のアイコン

装置名 蛍光X線測定器
設備の概要
(目的、用途)
本装置は蛍光X線によりめっきの膜厚を非破壊で測定する装置です。試料室が比較的大きいので工業製品の品質管理にも利用できます。また、Naより原子番号が大きい元素については簡易的な定性分析が可能です。
メーカー エスアイアイ・ナノテクノロジー
型式 SEA1200VX
設備仕様

試料形状:最大430(W)×320(D)×195(H)mm
X線管球:Rhターゲット
電圧:15,30,40,50kV
電流:最大1mA
冷却方式:空冷
一次フィルタ:4種+なし
分析領域(コリメータ):φ8mm及びφ1mm
検出系:Si半導体検出器
検出器冷却方式:空冷(液体窒素レス)
雰囲気:大気、真空

設置場所 研究棟 5F (R505)
問合せ先 材料技術部 金属・表面技術研究室
松本宏紀(052-654-9911)
その他
写真
蛍光X線測定器

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