名古屋市工業研究所

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主要設備・設備検索

設置設備・装置等の仕様

導入年度:平成17年 中小企業庁技術開発補助事業または技術指導施設費補助事業のアイコン

装置名 蛍光X線測定器
設備の概要
(目的、用途)
本装置は蛍光X線によりめっきの膜厚を非破壊で測定する装置です。試料の測定部分のコリメータをφ0.1mmに設定することで小さい面積のめっき膜厚を測定することが可能です。また、Naより原子番号が大きい元素については簡易的な定性分析が可能です。
メーカー セイコー電子工業
型式 SEA5100S
設備仕様

試料台:80×80mm
移動量:75(X)×75(Y)×35(Z)mm
X線管球:Moターゲット
電圧:50kV
電流:最大1mA
分析領域(コリメータ):φ1.8mm及びφ0.1mm
検出系:Si半導体検出器
検出器冷却方式:液体窒素
雰囲気:大気、真空

設置場所 研究棟 5F 電気化学測定室(R509)
問合せ先 材料技術部 金属・表面技術研究室
松本宏紀(052-654-9911)
その他
写真
蛍光X線測定器

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