名古屋市工業研究所

  • 文字サイズの変更
  • 文字サイズを標準にします
  • 文字サイズを大きく

HOME > 研究所案内-主要設備・設備検索 > オージェマイクロプローブ

主要設備・設備検索

設置設備・装置等の仕様

導入年度:昭和60年

装置名 オージェマイクロプローブ
設備の概要
(目的、用途)
本装置は、オージェ電子分光法による表面分析に用います。オージェ電子の平均自由工程は数nm程度と短いため、試料のごく表面の元素分析が可能です。また、Arイオンエッチングと表面分析を交互に行うことで、深さ方向の分析を行うこともできます。
メーカー 日本電子
型式 JAMP-10S
設備仕様

オージェ分析のエネルギ・レンジ:0〜3keV
加速電圧:0〜10kV
プローブ径:FOCUS、5、10、30、50、100μm
信号:二次電子、オージェ電子、反射電子

設置場所 電子技術総合センター 2F 電子素子加工実験室(E209)
問合せ先 システム技術部 電子技術研究室
村瀬真(052-654-9930)
その他
写真
オージェマイクロプローブ

このページの先頭へ