名古屋市工業研究所

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主要設備・設備検索

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新規導入設備

導入年度:平成20年 (財)JKA設備拡充補助対象事業のアイコン

装置名 イオンミリング装置(断面試料作製装置)
設備の概要
(目的、用途)
電子顕微鏡による断面観察をするために、機械研磨や切削では取り除けない細かな傷や歪をアルゴンイオンビームにより除去し、平坦な試料断面作製に用います。
メーカー 日立ハイテクノロジー
型式 E-3500
設備仕様

・Arガス使用 加速電圧0〜6kV、
・最大試料サイズ20(W)×12(D)×5(H)mm
・ミリング速度100μm/hr (Si)

設置場所 研究棟 2F 電子顕微鏡室(R214)
問合せ先 材料技術部 金属・表面技術研究室
三宅猛司(052-654-9915)
その他 この設備は、財団法人JKAの平成20年度公設工業試験研究所の設備拡充補助事業によって導入されました。(H20.10.06設置)
写真 イオンミリング装置(断面試料作製装置)の画像

導入年度:平成20年 (財)JKA設備拡充補助対象事業のアイコン

装置名 試料トリミング装置
設備の概要
(目的、用途)
観察箇所のトリミングに用いるとともに、断面試料作製装置による断面試料作製のトリミングに用います。
メーカー ライカマイクロシステムズ
型式 EM TXP
設備仕様

顕微鏡下において、切断、研削、研磨を行うことが可能
試料サイズ 幅10mm×厚さ3mm程度

設置場所 研究棟 2F 電子顕微鏡室(R214)
問合せ先 材料技術部 金属・表面技術研究室
三宅猛司(052-654-9915)
その他 この設備は、財団法人JKAの平成20年度公設工業試験研究所の設備拡充補助事業によって導入されました。(H20.11.13設置)
写真 試料トリミング装置の画像

導入年度:平成20年 (財)JKA設備拡充補助対象事業のアイコン

装置名 X線分析機能付高分解能走査電子顕微鏡
設備の概要
(目的、用途)
本装置は製品の表面形態を高分解能で観察する装置です。2次電子像、反射電子像が撮影でき、イオンミリング装置で調整すれば結晶組織の観察が可能です。微小部の元素分析が可能です。異物分析、不良原因調査、破損解析などに利用できます。
メーカー 日立ハイテクノロジーズ
型式 S-4800
設備仕様

観察倍率 :×20〜800,000
加速電圧 :0.5〜30kV
照射電圧 :0.1〜2.0kV(リターディングモード)
二次電子分解能 :1.0nm(加速電圧15kV、WD4mm)、1.4nm(加速電圧1kV、WD4mm)
検出元素 :B〜U
検出器 :液体窒素レス半導体検出器

設置場所 研究棟 2F 電子顕微鏡室(R214)
問合せ先 材料技術部 金属・表面技術研究室
加藤雅章(052-654-9914)
その他 この設備は、財団法人JKAの平成20年度公設工業試験研究所の設備拡充補助事業によって導入されました。(H20.10.06設置)
写真 X線分析機能付高分解能走査電子顕微鏡の画像
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