名古屋市工業研究所

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主要設備・設備検索

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新規導入設備

導入年度:平成23年 (財)JKA設備拡充補助対象事業のアイコン

装置名 過渡熱抵抗測定装置
設備の概要
(目的、用途)
電子部品・回路の詳細な過渡熱抵抗の測定に用います。電流を通じた際に時間経過と共に変化していく温度を測定することで、電子部品やそれらに接続された基板などの熱的構造を求めることができます。半導体部品の評価(θJCの測定)から、はんだ不良やLEDの劣化評価など様々に応用できます。
メーカー メンターグラフィックスジャパン
型式 T3Ster
設備仕様

Static法(JESD51-14)
試料加熱用電源ブースター(50A/30V)
試料冷却用コールドプレート・サーキュレータ
測定温度範囲:5〜90℃(恒温槽)
電圧測定レンジ:400, 200, 100, 50mV

設置場所 電子技術総合センター 2F 恒温恒湿室(E203)
問合せ先 システム技術部 生産システム研究室
梶田欣(052-654-9940)
その他 この設備は、財団法人JKAの平成23年度公設工業試験研究所の設備拡充補助事業によって導入されました。(H23.11.9設置)
写真 過渡熱抵抗測定装置の画像

導入年度:平成23年 (財)JKA設備拡充補助対象事業のアイコン

装置名 熱流体解析装置
設備の概要
(目的、用途)
コンピュータシミュレーションによって熱流体解析を行います。本装置は、ファンやタービンなどの機械部品の流体計算を複雑形状に忠実に行うことで電子機器の温度上昇を高精度に計算することができます。このことによって、機器の性能・不具合の早期予測が可能となり、試作の費用や期間を削減することができるので生産性向上に大きく寄与することができます。
メーカー ソフトウェアクレイドル
型式 SCRYU/Tetra 熱設計PAC
設備仕様

構造格子(熱設計PAC V10)・非構造格子(SCRYU/Tetra V10)多種流体・移動変形メッシュ・形状トランスレータ(CADThru)・解適合機能・熱変形解析などの取扱が可能、ハードウェア:ワークステーション Z800(XeonX5690×2, 48GB)

設置場所 電子技術総合センター 3F 生産システム研究室(E308)
問合せ先 システム技術部 生産システム研究室
梶田欣(052-654-9940)
その他 この設備は、財団法人JKAの平成23年度公設工業試験研究所の設備拡充補助事業によって導入されました。(H23.11.15設置)
写真 熱流体解析装置の画像

導入年度:平成23年 (財)JKA設備拡充補助対象事業のアイコン

装置名 電磁界解析装置
設備の概要
(目的、用途)
電子機器などが発する電磁界の高周波領域・大規模な解析が可能であり、電磁ノイズ対策の検討などに利用できます。本装置を活用することで、製品の性能・不具合の早期発見が可能となり試作の期間・費用を削減し生産性向上に大きく寄与することができます。
メーカー Schmid & Partner Engineering
型式 SEMCADX
設備仕様

FDTD法、SAR計算などの取扱が可能、ハードウェア:XeonX5690×2, 48GB, TESLA C2075×2

設置場所 電子技術総合センター 3F 生産システム研究室(E308)
問合せ先 システム技術部 生産システム研究室
梶田欣(052-654-9940)
その他 この設備は、財団法人JKAの平成23年度公設工業試験研究所の設備拡充補助事業によって導入されました。(H23.11.29設置)
写真 電磁界解析装置の画像

導入年度:平成23年 (財)JKA設備拡充補助対象事業のアイコン

装置名 デジタルマイクロスコープ
設備の概要
(目的、用途)
デジタルマイクロスコープは、デジタル画像として取り込んだ光学顕微鏡像をモニター上で観察できる装置で、試料表面の異物や欠陥の拡大観察、2点間距離や角度、面積等の計測などに適しています。また、画像連結機能による高倍率かつ広範囲の合成画像や、深度合成機能による全領域に焦点のあった合成画像の取得が容易で、3Dでの形状表示もできるため、多彩な観察に使用できます。
メーカー ハイロックス
型式 KH-7700
設備仕様

撮像素子:1/1.8型211万画素CCD
倍率:35〜2500倍
アダプタ等:角度可変ロータリーヘッド、拡散照明、可変照明、片射、偏光、透過照明
主な機能:静止画、動画、2D計測、3D観察

設置場所 電子技術総合センター 3F 先端技術開放試験室(E301)
問合せ先 システム技術部 電子技術研究室
村瀬真(052-654-9930)
その他 この設備は、財団法人JKAの平成23年度公設工業試験研究所の設備拡充補助事業によって導入されました。(H23.9.29設置)
写真 デジタルマイクロスコープの画像

導入年度:平成23年 (財)JKA設備拡充補助対象事業のアイコン

装置名 熱拡散率測定装置(キセノンフラッシュ法熱定数測定装置)
設備の概要
(目的、用途)
本測定装置では、金属やセラミックスといった熱伝導性の高い材料の熱物性値を日本工業規格JIS R 1611に準拠して測定することができます。また、熱伝導性シート等の複合材料の測定にも対応しています。
メーカー ネッチ
型式 LFA 447-NS22 Nanoflash
設備仕様

測定方法:キセノンフラッシュ法
温度範囲:室温〜300℃
試験体形状:直径10mm、厚さ0.5〜2mmの円板

設置場所 電子技術総合センター 3F 暗室(E302)
問合せ先 システム技術部 生産システム研究室
高橋文明(052-654-9938)
その他 この設備は、財団法人JKAの平成23年度公設工業試験研究所の設備拡充補助事業によって導入されました。(H23.12.20設置)
写真 熱拡散率測定装置(キセノンフラッシュ法熱定数測定装置)の画像

導入年度:平成23年 (財)JKA設備拡充補助対象事業のアイコン

装置名 熱伝導率測定装置
設備の概要
(目的、用途)
本装置は、断熱材等の熱伝導性が低い材料の熱伝導率をJIS A 1412-2に準拠して測定することが出来ます。
メーカー 英弘精機(株)
型式 HC-074/200
設備仕様

測定方法:定常法-熱流計法
測定温度:10〜65℃
測定範囲:0.005〜0.35
試験体形状:200×200(mm)、厚さ5〜50(mm)

設置場所 電子技術総合センター 3F 先端技術開放試験室(E301)
問合せ先 システム技術部 生産システム研究室
近藤光一郎(052-654-9892)
その他 この設備は、財団法人JKAの平成23年度公設工業試験研究所の設備拡充補助事業によって導入されました。(H24.1.18設置)
写真 熱伝導率測定装置の画像

導入年度:平成23年 (財)JKA設備拡充補助対象事業のアイコン

装置名 高周波材料特性測定装置
設備の概要
(目的、用途)
高周波材料特性測定装置は、固体のみならずゲル状などの半固体や液体の複素誘電率を測定することができ、固体の複素透磁率の測定もできる装置です。特定の周波数のみではなく、目的の周波数領域で掃引した特性の変化も測定することができます。自動車やスマートフォンなどで用いられる樹脂や塗膜などの材料の電気的特性の測定に活用できます。
メーカー アジレント・テクノロジー株式会社 / 株式会社関東電子応用開発
型式 E5071C / 85070E / CSH2-APC7 / CSH5-20D
設備仕様

誘電率測定:0.2〜8.5GHz(固体、半固体、液体)、0.1〜8.5GHz(固体)、2.45GHz, 5.8GHz(高精度)
透磁率測定:0.1〜8.5GHz(固体)

設置場所 電子技術総合センター 2F 恒温恒湿室(E203)
問合せ先 プロジェクト推進室 八木橋信
(052-654-9937)
その他 この設備は、財団法人JKAの平成23年度公設工業試験研究所の設備拡充補助事業によって導入されました。(H24.1.31設置)
写真 高周波材料特性測定装置の画像
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