名古屋市工業研究所

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主要設備・設備検索

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新規導入設備

導入年度:平成26年

装置名 光学特性評価システム - 全光束測定システム
設備の概要
(目的、用途)
本システムは、光源の光学特性を評価する装置です。φ40inch(約1000mm)積分球を使用し、分光測光検出器と接続して、全光束を測定します。また、測定時にAC電源もしくはDC電源と連動することで、発光効率も測定可能です。
メーカー 大塚電子(株)
型式 FM-9100
設備仕様

測定波長:360〜830nm
全光束測定範囲:0.5〜100,000lm
積分球サイズ:Φ40inch(約1m)
分光器:MCPD­9800(3095C)
測定項目:全光束、発光効率、色度、色温度、演色性評価数、など
測定対象例:小型電球、蛍光管(70cmまで)

設置場所 電子技術総合センター 4F 第2メカトロ実験室(E401)
問合せ先 システム技術部 電子技術研究室
村瀬真(052-654-9930)
その他 この設備は、平成25年度補正予算事業「地域オープンイノベーション促進事業」(東海地域)によって導入されました。
写真 光学特性評価システム - 全光束測定システムの画像

導入年度:平成26年

装置名 光学特性評価システム - 配光測定システム
設備の概要
(目的、用途)
本システムは,LED等の照明器具の配光特性を測定する装置です。2軸ゴニオステージに照明器具を設置し、マルチチャンネル分光光度計で配光測定を行います。配光測定によって空間的な光度または照度の強度分布や色度分布を測定します。また、配光測定によって得られた光度分布から照明器具の全光束を算出することが可能です。
メーカー 大塚電子(株)
型式 GP-2000
設備仕様

測定波長:360〜830nm
二軸ゴニオ:θΦ座標系
光路長:1.5m、 3m、 6m
分光器:MCPD-9800(3095C)
測定項目:配光、色度、色温度、演色性評価数、全光束(球帯係数法)
測定対象例:LEDモジュール、小型電球、蛍光管(対角120cmまで)

設置場所 電子技術総合センター 4F 第2メカトロ実験室(E401)
問合せ先 システム技術部 電子技術研究室
立松昌(052-654-9935)
その他 この設備は、平成25年度補正予算事業「地域オープンイノベーション促進事業」(東海地域)によって導入されました。
写真 光学特性評価システム - 配光測定システムの画像

導入年度:平成26年

装置名 光学特性評価システム - 輝度・照明測定装置
設備の概要
(目的、用途)
本装置は、主に液晶やCRTなどのディスプレイデバイスの分光分布、輝度、色度、相関色温度の測定ができます。ハイコントラストのディスプレイパネルの光学特性評価や自動車用インパネの微小面を高精度に測定可能です。また、照度アダプターを使用することで、照度の測定も可能となります。
メーカー (株)トプコンテクノハウス
型式 SR-LEDW-5N
設備仕様

測定波長:370〜780nm
測定範囲:0.0005〜5,000,000cd/m2
0.01〜30,000,000lx
スペクトル波長幅:5nm
測定内容:分光分布、輝度、照度、色度、色温度

設置場所 電子技術総合センター 4F 第2メカトロ実験室(E401)
問合せ先 システム技術部 電子技術研究室
立松昌(052-654-9935)
その他 この設備は、平成25年度補正予算事業「地域オープンイノベーション促進事業」(東海地域)によって導入されました。
写真 光学特性評価システム - 輝度・照明測定装置の画像

導入年度:平成26年

装置名 光学特性評価システム - 反射・透過測定装置
設備の概要
(目的、用途)
本装置は、ガラス基板、金属、フィルムなどの透過、反射の光散乱特性等を測定し評価を行うことを目的とする装置です。LED などの発光体の配光特性も測定が可能です。光源からの光を水平に置いた試料に照射し、受光器を水平、垂直に回転させることによって透過、反射の散乱特性データを得ます。
メーカー ニッカ電測(株)
型式 GP-4
設備仕様

光源:ハロゲン光源
受光部:フォトマル 又は 分光器(360〜830nm)

設置場所 電子技術総合センター 4F 第2メカトロ実験室(E401)
問合せ先 システム技術部 電子技術研究室
立松昌(052-654-9935)
その他 この設備は、平成25年度補正予算事業「地域オープンイノベーション促進事業」(東海地域)によって導入されました。
写真 光学特性評価システム - 反射・透過測定装置の画像

導入年度:平成26年

装置名 光学特性評価システム - 形状測定装置
設備の概要
(目的、用途)
本装置は、ガラス基板、金属、フィルムなどの形状を測定する装置です。非接触のレーザーによる形状測定ができます。数μm〜数mm程度の凹凸を持つ試料の表面形状測定に適しています。
測定した形状の3D表示、短波長レーザによる高解像度観察、表面粗さの測定などが可能です。
メーカー (株)キーエンス
型式 VK-X210/200
設備仕様

レーザ光源波長:408nm
総合倍率:200〜24,000倍(15型モニタ上)
高さ測定範囲:最大7mm
高さ測定繰り返し精度:0.012μm
幅測定繰り返し精度:0.02μm

設置場所 電子技術総合センター 4F 第2メカトロ実験室(E401)
問合せ先 システム技術部 電子技術研究室
立松昌(052-654-9935)
その他 この設備は、平成25年度補正予算事業「地域オープンイノベーション促進事業」(東海地域)によって導入されました。
写真 光学特性評価システム - 形状測定装置の画像

導入年度:平成26年 JKAのアイコン

装置名 光電子分光装置
設備の概要
(目的、用途)
固体試料にX線を照射して、極表面から出される光電子を分析する装置です。表面組成と化学結合状態を分析できる装置です。
メーカー アルバック・ファイ(株)
型式 PHI X-tool
設備仕様

・X線源:モノクロ集光型Al-Kα
・分解能0.50eV(Ag)
・分解能0.85eV(C)
・最小分析径20µm
・分析径20µm、分解能0.6eV 50,000cps(Ag)
・サンプルホルダーサイズ:75mm角
・最大試料高さ10mm
・試料室の真空度2.5×10-7Pa

設置場所 研究棟 4F X線測定室(R413)
問合せ先 材料技術部 金属・表面技術研究室
加藤雅章(052-654-9914)
その他 この設備は、公益財団法人JKAの平成26年度公設工業試験研究所の設備拡充補助事業によって導入されました。(H27.1.21設置)
写真 光電子分光装置の画像
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