導入年度 | 2008年度 |
---|---|
補助事業 | (公財)JKA |
設備の概要(目的、用途) |
【電子顕微鏡用試料平滑断面試料調製】 電子顕微鏡による断面観察をするために、機械研磨や切削では取り除けない細かな傷や歪をアルゴンイオンビームにより除去し、平坦な試料断面作製に用います。 |
メーカー | 日立ハイテクノロジー |
型式 | E-3500 |
設備仕様 | ・Arガス使用 加速電圧0~6kV、 ・最大試料サイズ20(W)×12(D)×5(H)mm ・ミリング速度100μm/hr (Si) |
設置場所 | 研究棟2F 電子顕微鏡室(R214) |
問合せ先 | 材料技術部 表面技術研究室 浅野成宏(052-654-9887) |
その他 | この設備は、財団法人JKAの平成20年度公設工業試験研究所の設備拡充補助事業によって導入されました。(H20.10.06設置) |