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蛍光X線測定器
| 導入年度 | 2010年度 |
|---|---|
| 補助事業 | サポイン |
| 設備の概要（目的、用途） |
【めっきの膜厚測定、材料の定性分析】 本装置は蛍光X線によりめっきの膜厚を非破壊で測定する装置です。試料室が比較的大きいので工業製品の品質管理にも利用できます。また、Naより原子番号が大きい元素については簡易的な定性分析が可能です。 |
| メーカー | エスアイアイ・ナノテクノロジー |
| 型式 | SEA1200VX |
| 設備仕様 | 試料形状：最大430(W)×320(D)×195(H)mm X線管球：Rhターゲット 電圧：15,30,40,50kV 電流：最大1mA 冷却方式：空冷 一次フィルタ：4種＋なし 分析領域（コリメータ）：φ8mm及びφ1mm 検出系：Si半導体検出器 検出器冷却方式：空冷（液体窒素レス） 雰囲気：大気、真空 |
| 設置場所 | 研究棟5F (R505) |
| 問合せ先 | 材料技術部 表面技術研究室 浅野成宏(052-654-9887) |
| その他 |