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イオンプレーティング装置
| 導入年度 | 1998年度 |
|---|---|
| 補助事業 | 日本自転車振興会 |
| 設備の概要（目的、用途） |
【硬質膜の作製】 ドライプレーティング法の一種。蒸発金属を陰極として真空中で放電させ、金属元素のプラズマを発生させる。基盤に蒸発金属よりもさらに負のバイアス電圧を印加して、プラズマ中の金属イオンを基盤に向けて加速し、成膜する装置。 金属上へ良好な密着性を有する窒素チタン、炭化チタン、窒化クロム等の硬質皮膜の作製に用います。 |
| メーカー | 日新電機 |
| 型式 | MAV-R202E |
| 設備仕様 | ・蒸発方式：アーク蒸発 ・蒸発源：２源 ・処理能力：300×300mm ・最大印加電圧：-1000V ・加熱用ヒータ温度：約600℃（制御可能） ・ワーク温度計測：赤外線放射温度計による ・ガス供給：窒素、メタン、アルゴン、水素 ・ガス制御：マスフローコントローラによる制御 ・コンピュータ自動制御、自動運転 |
| 設置場所 | 研究棟5F 試料準備室(R511) |
| 問合せ先 | 支援総括室 三宅猛司(052-654-9915) |
| その他 | この設備は、日本自転車振興会の平成10年度公設工業試験研究所の設備拡充補助事業によって導入されました。(H11.2.17設置) |