導入年度 | 1992年度 |
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補助事業 | 中部科学技術センター |
設備の概要(目的、用途) |
【真空雰囲気における熱処理】 本装置は真空および不活性ガス雰囲気中において、種々形状の対象物全体を均一に加熱し熱処理を行う多目的実用炉です。 |
メーカー | 東京真空 |
型式 | MINI-VAC-90 |
設備仕様 | 有効均熱部:Φ130×100 常用温度:500~1300℃(真空) 昇温速度:最大10℃/min 真空:10-3Pa |
設置場所 | 研究棟5F 試料準備室(R511) |
問合せ先 | 材料技術部 表面技術研究室 川瀬聡(052-654-9925) |
その他 |