導入年度 | 2020年度 |
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補助事業 | (公財)JKA |
設備の概要(目的、用途) |
【高分解能観察、定性分析、半定量分析、結晶方位解析】 本装置は製品の表面形態を高分解能で観察する装置であり、2次電子像、反射電子像が撮影できます。また、微小部の元素分析並びに結晶方位解析が可能です。異物分析、不良原因調査、破損解析、多結晶材料の組織評価などに利用できます。 |
メーカー | 日本電子 |
型式 | JSM-7900F |
設備仕様 | 電子銃 : ZrO/Wショットキー 加速電圧 : 0.01(電子ビーム減速機構有)~30 kV 最大照射電流 : 500 nA 倍率 : ×75~×3,000,000 分解能 : 加速電圧15 kV : 0.6 nm、加速電圧1 kV : 0.7 nm 検出器 : 上方検出器、下方検出器、反射電子検出器 EDS : AztecLive Standard UltimMax40(Oxford社) EBSD : AztecHKL Advanced C-Nano(Oxford社) |
設置場所 | 研究棟2F 電子顕微鏡室(R213) |
問合せ先 | 材料技術部 表面技術研究室 浅野成宏(052-654-9887) |
その他 | 公益財団法人JKAの2020年度「公設工業試験研究所等における機械設備拡充補助事業」によって導入されました。(R3.1.27設置) https://www.youtube.com/watch?v=OMI5YLD9qmU |