導入年度 | 2015年度 |
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補助事業 | (公財)JKA |
設備の概要(目的、用途) |
【各種材料の結晶構造解析】 ・固体、粉末、薄膜材料など、物質の種類や結晶構造の同定 ・薄膜の膜厚測定 ・微小領域に局在した異物の特定 ・液中に分散したナノサイズ粒子の大きさや形状・粒度分布測定 ・試料の残留応力解析 |
メーカー | PANalytical |
型式 | Empyrean |
設備仕様 | ・X線源:4kw高圧発生器 ・X線管球セラミック製 LEF Cu ・ゴニオメータ:高精度試料水平ゴニオメータ ・光学系:Bragg-BrentanoHD、ダブルクロススリットコリメータ、 微小部アライメントカメラ ・試料ステージ:3軸クレードルステージ、SAXS/WAXSステージ ・試料ホルダ:円形サンプルホルダ、キャピラリーホルダ1.0mmφ ・検出器:多次元半導体検出器PIXcel3D、平板コリメータ 0.27° ・制御・解析コンピュータシステム:23インチTFT液晶ディスプレイ、 カラーレーザプリンタ、制御ソフトウェア、総合解析ソフトウェア、 極図形解析ソフトウェア、残留応力解析ソフトウェア、小角散 乱解析ソフトウェア、反射率解析ソフトウェア、薄膜グラフィック スソフトウェア、化合物同定検索用データベース |
設置場所 | 研究棟4F X線測定室(R414) |
問合せ先 | 材料技術部 表面技術研究室 岸川允幸(052-654-9884) 材料技術部 表面技術研究室 川瀬聡(052-654-9925) 材料技術部 信頼性評価研究室 小野さとみ(052-654-9852) |
その他 | この設備は、公益財団法人JKAの平成27年度公設工業試験研究所の設備拡充補助事業によって導入されました。(H27.12.15設置) https://www.youtube.com/watch?v=WEjbA7zKL8c |