導入年度 | 2005年度 |
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補助事業 | 中小企業庁 |
設備の概要(目的、用途) |
【めっきの膜厚測定、材料の定性分析】 本装置は蛍光X線によりめっきの膜厚を非破壊で測定する装置です。試料の測定部分のコリメータをφ0.1mmに設定することで小さい面積のめっき膜厚を測定することが可能です。また、Naより原子番号が大きい元素については簡易的な定性分析が可能です。 |
メーカー | セイコー電子工業 |
型式 | SEA5100S |
設備仕様 | 試料台:80×80mm 移動量:75(X)×75(Y)×35(Z)mm X線管球:Moターゲット 電圧:50kV 電流:最大1mA 分析領域(コリメータ):φ1.8mm及びφ0.1mm 検出系:Si半導体検出器 検出器冷却方式:液体窒素 雰囲気:大気、真空 |
設置場所 | 研究棟5F 電気化学測定室(R509) |
問合せ先 | 材料技術部 表面技術研究室 田辺智亮(052-654-9943) |
その他 |