名古屋市工業研究所

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主要設備・設備検索

設置設備・装置等の仕様

導入年度:平成26年 JKAのアイコン

装置名 光電子分光装置
設備の概要
(目的、用途)
固体試料にX線を照射して、極表面から出される光電子を分析する装置です。表面組成と化学結合状態を分析できる装置です。
メーカー アルバック・ファイ(株)
型式 PHI X-tool
設備仕様

・X線源:モノクロ集光型Al-Kα
・分解能0.50eV(Ag)
・分解能0.85eV(C)
・最小分析径20µm
・分析径20µm、分解能0.6eV 50,000cps(Ag)
・サンプルホルダーサイズ:75mm角
・最大試料高さ10mm
・試料室の真空度2.5×10-7Pa

設置場所 研究棟 4F X線測定室(R413)
問合せ先 材料技術部 金属・表面技術研究室
加藤雅章(052-654-9914)
その他 この設備は、公益財団法人JKAの平成26年度公設工業試験研究所の設備拡充補助事業によって導入されました。(H27.1.21設置)
写真
光電子分光装置

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