名古屋市工業研究所

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主要設備・設備検索

設置設備・装置等の仕様

導入年度:令和2年 のアイコン

装置名 分析機能付超高分解能走査電子顕微鏡
設備の概要
(目的、用途)
本装置は製品の表面形態を高分解能で観察する装置であり、2次電子像、反射電子像が撮影できます。また、微小部の元素分析並びに結晶方位解析が可能です。異物分析、不良原因調査、破損解析、多結晶材料の組織評価などに利用できます。
メーカー 日本電子(株)
型式 JSM-7900F
設備仕様
  • 電子銃 : ZrO/Wショットキー
  • 加速電圧 : 0.01(電子ビーム減速機構有)〜30 kV
  • 最大照射電流 : 500 nA
  • 倍率 : ×75〜×3,000,000
  • 分解能 : 加速電圧15 kV : 0.6 nm、加速電圧1 kV : 0.7 nm
  • 検出器 :
    • 上方検出器、下方検出器、反射電子検出器
    • EDS : AztecLive Standard UltimMax40(Oxford社)
    • EBSD : AztecHKL Advanced C-Nano(Oxford社)
設置場所 研究棟 2F 電子顕微鏡室(R213)
問合せ先 材料技術部 表面技術研究室
浅野成宏(052-654-9887)
その他 公益財団法人JKAの2020年度「公設工業試験研究所等における機械設備拡充補助事業」によって導入されました。(R3.1.27設置)
写真
分析機能付超高分解能走査電子顕微鏡

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